據(jù)北方華創(chuàng)官微消息，近日，由北方華創(chuàng)自主研發(fā)的12英寸高密度等離子體化學氣相沉積（HDPCVD）設備Orion Proxima正式進入客戶端驗證。這標志著北方華創(chuàng)在絕緣介質填充工藝技術上實現(xiàn)了新的突破，也為北方華創(chuàng)進軍12英寸介質薄膜設備領域，打開百億級市場邁出了堅實的一步。
（圖源：北方華創(chuàng)）
據(jù)了解，Orion Proxima作為北方華創(chuàng)推出的國產自研高密度等離子體化學氣相沉積設備，主要應用于12英寸集成電路芯片的淺溝槽絕緣介質填充工藝，通過沉積-刻蝕-沉積的工藝方式可以有效完成對高深寬比溝槽間隔的絕緣介質填充?，F(xiàn)階段，Orion Proxima技術性能在迭代升級中已達業(yè)界先進水平。
