據(jù)尚積半導(dǎo)體官微消息，近日，尚積半導(dǎo)體的12寸PVD&CVD薄膜沉積設(shè)備順利交付國內(nèi)某頭部客戶，成功躋身12寸半導(dǎo)體。
據(jù)悉，該設(shè)備具有如下特點：1、高精度控制系統(tǒng)，確保成膜質(zhì)量——該設(shè)備配備了高精度溫度、壓力、功率及氣流控制系統(tǒng)，確保沉積過程穩(wěn)定可靠，成膜質(zhì)量優(yōu)異；2、模塊化設(shè)計，滿足個性化需求——該設(shè)備采用模塊化設(shè)計，便于客戶根據(jù)實際需求進行靈活配置和升級；3、產(chǎn)品性能更優(yōu)，生產(chǎn)效率更高——該設(shè)備優(yōu)秀的工藝性能和設(shè)備的穩(wěn)定性將為客戶帶來更優(yōu)產(chǎn)品性能、更高的生產(chǎn)效率和更可靠的質(zhì)量保障。
資料顯示，尚積半導(dǎo)體是一家專業(yè)研發(fā)、生產(chǎn)半導(dǎo)體國產(chǎn)自研設(shè)備的廠商，主營設(shè)備包括金屬濺射沉積（PVD）、加強型等離子化學(xué)氣相沉積（PECVD）、等離子干法刻蝕（ETCH）等，主要服務(wù)于功率器件、微機電系統(tǒng)、先進封裝、化合物半導(dǎo)體、射頻等領(lǐng)域的客戶。近幾年，尚積半導(dǎo)體在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的多個領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)薄膜濺射設(shè)備的首次國產(chǎn)化突破和進口替代，刻蝕設(shè)備、沉積設(shè)備陸續(xù)通過驗證后交付，并獲得大量訂單。
