據(jù)報(bào)道，上海傳芯半導(dǎo)體掩?；逖邪l(fā)及產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目日前在上海臨港啟動(dòng)，項(xiàng)目將投資建成國(guó)內(nèi)首條半導(dǎo)體級(jí)14納米光掩膜基板生產(chǎn)線。
啟動(dòng)儀式上，傳芯半導(dǎo)體董事長(zhǎng)黃昶程表示，未來(lái)，傳芯半導(dǎo)體將在臨港新片區(qū)投資建設(shè)國(guó)內(nèi)首條半導(dǎo)體級(jí)14nm光掩膜基板生產(chǎn)線，該半導(dǎo)體級(jí)先進(jìn)制程光掩膜基板生產(chǎn)線的落地，將使光掩膜產(chǎn)業(yè)鏈中關(guān)鍵產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)本地化。
光掩膜一般也稱(chēng)光罩、掩膜版，是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過(guò)曝光將圖形轉(zhuǎn)印到產(chǎn)品基板上。光掩膜主要由兩部分組成:基板和不透光材料。
據(jù)半導(dǎo)體專(zhuān)家莫大康介紹，光掩膜技術(shù)是光刻產(chǎn)業(yè)當(dāng)中重要的一個(gè)環(huán)節(jié)。光掩膜作為集成電路的原始模板，通過(guò)光刻技術(shù)將掩膜版上的電路圖案復(fù)制到晶圓上，從而批量化生產(chǎn)芯片等產(chǎn)品。隨著晶體管變得越來(lái)越小，光掩膜的制造也變得越來(lái)越復(fù)雜。先進(jìn)制程光掩膜基板的需求也在不斷提升。
在半導(dǎo)體領(lǐng)域，英特爾、三星、臺(tái)積電、中芯國(guó)際等半導(dǎo)體制造廠所用的光掩膜大部分由自己的專(zhuān)業(yè)工廠生產(chǎn)。非先進(jìn)制程，特別是60nm及90nm以上工藝產(chǎn)品，產(chǎn)品外包的趨勢(shì)非常明顯。不過(guò)，獨(dú)立光掩膜市場(chǎng)集中度很高，Photronics、大日本印刷DNP 和日本凸版印刷Toppan 三家占據(jù)80%以上的市場(chǎng)份額。
