2021年6月9日，中微半導體設備（上海）股份有限公司在上?？偛颗e辦電感耦合等離子體（ICP）刻蝕設備Primo nanova?第100臺反應腔交付客戶慶祝儀式。中微公司執(zhí)行副總裁兼首席運營官杜志游博士、集團副總裁兼等離子刻蝕產(chǎn)品事業(yè)總部總經(jīng)理倪圖強博士、副總裁兼ICP刻蝕產(chǎn)品部總經(jīng)理劉身健博士和其他核心團隊成員出席了慶祝儀式。
Primo nanova?是中微公司于2018年正式發(fā)布的第一代電感耦合等離子體刻蝕設備。該設備采用了中微公司具有自主知識產(chǎn)權的電感耦合等離子體刻蝕技術，具有對稱的反應腔、超高分子泵抽速、獨特的低電容耦合線圈設計和多區(qū)細分溫控靜電吸盤等創(chuàng)新特性，幫助客戶在存儲芯片和邏輯芯片的批量生產(chǎn)中獲得更好的工藝加工能力和更低的生產(chǎn)成本。
目前，中微公司Primo nanova?產(chǎn)品已成功進入海內(nèi)外十余家客戶的晶圓生產(chǎn)線，在領先的邏輯芯片、DRAM 和3D NAND廠商的生產(chǎn)線上實現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)。在全球客戶的信任和支持下，中微公司第100腔Primo nanova?刻蝕設備的順利交付，是公司ICP刻蝕產(chǎn)品業(yè)務發(fā)展新的里程碑，標志著產(chǎn)品發(fā)展邁入新的階段。
當前集成電路科技發(fā)展日新月異，中微公司將繼續(xù)在全球客戶和產(chǎn)業(yè)鏈合作伙伴的支持下，持續(xù)開發(fā)極具競爭優(yōu)勢的技術和產(chǎn)品，助力行業(yè)實現(xiàn)跨越式發(fā)展。
