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近日，新思科技（Synopsys）宣布，在雙方的長期合作中，三星晶圓廠已經(jīng)通過公司數(shù)字和定制設(shè)計工具和流程成功實現(xiàn)了多次測試流片，從而更好地推動三星的3納米全環(huán)繞柵極（GAA）技術(shù)被采用于對功耗、性能和面積（PPA）要求極高的應(yīng)用中。
　　
　　新思科技表示，與三星SF5E工藝相比，采用三星晶圓廠SF3技術(shù)的共同客戶將實現(xiàn)功耗降低約50%，性能提高約30%，面積縮小30%左右。此外，新思科技還獲得了三星的"最先進(jìn)工藝"認(rèn)證。
　　
　　據(jù)了解，三星精簡了3納米工藝開發(fā)的成本和時間，并根據(jù)PPA設(shè)計指標(biāo)有效地評估了其工藝選項。三星持續(xù)將新思科技DSO.ai?技術(shù)納入其流程中，利用機器學(xué)習(xí)能力來大規(guī)模地探索芯片設(shè)計工作流程中的選擇，并加快其流程的開發(fā)。